Влияние расхода полимеризующего газа CHF3 на технологические параметры плазмохимического травления кремния
Proceeding
- Published in:
- V Международная научно-практическая конференция «Научные исследования: от теории к практике». Volume 2
- Author:
- Osipov A. A. 1
- Work direction:
- Технические науки (электромеханика, приборостроение, машиностроение, металлургия и др.)
- Rating:
- Article accesses:
- 2850
- Published in:
- eLibrary.ru
1 St. Petersburg Institute of Machinery of St. Petersburg Polytechnic University named after Peter the Great
- APA
For citation:
Osipov A. A. (2015). Влияние расхода полимеризующего газа CHF3 на технологические параметры плазмохимического травления кремния. Научные исследования: от теории к практике, 2(4 (5)), 82-85. Cheboksary: SCC "Interactive plus", LLC.
- Full text
- Metrics
Abstract
Оптимизация операционных параметров глубокого анизотропного плазменного травления кремния требует четкого понимания влияния каждого из них на технологические параметры и качество результата травления. В данной работе было рассмотрено влияние расхода полимеризующего газа на скорость, селективность, анизотропию и равномерность травления, а также на значение угла наклона вертикальной стенки при формировании глубоких структур (канавок) в кремнии методом ПХТ (плазмохимическое травление). Проведенные эксперименты позволили установить зависимости вышеперечисленных характеристик от расхода полимеризующего газа и связать их с толщиной защитной пленки, образующейся на стадии пассивации
Comments(0)