Оптимизация лазерного термораскалывания кремниевых пластин на кристаллы с органическими светоизлучающими структурами
Аннотация
в работе теоретически и экспериментально исследованы зависимости и влияния скорости и плотности мощности лазерного излучения с эллиптическим сечением пучка на глубину трещины, образующейся в процессе ЛУТ на установке РТ‐350. Основное внимание уделяется кремниевым пластинам толщиною 725 мкм, т.к. именно их лазерная обработка представляется наиболее перспективной в производстве микродисплеев на основе органических светоизлучающих структур (ОСИД или OLED).
подробнее