Сoating deposition in a mixed flow of metal vapor and fast gas molecules
Research Article
- Published in:
- Monthly international scientific journal «Interactive science»
- Author:
- Ding Kai Jian 1
- Work direction:
- Технические науки
- Rating:
- Article accesses:
- 353
- Published in:
- eLibrary.ru
1 The University of Technology of China
- APA
For citation:
Kai Jian D. (2023). Сoating deposition in a mixed flow of metal vapor and fast gas molecules. Interactive science, 70-74.
- Full text
- Metrics
UDC 621.735.016.2
Abstract
Сoating deposition on dielectrics is used a source of metal atoms and fast gas molecules produced due to charge exchange collisions of accelerated ions in a processing chamber is described. The metal atoms are produced due to ion sputtering of a target placed at the bottom of the hollow cathode inside the source. When a mixture of argon and nitrogen is used, nitride coatings are produced with deposition rate up to 4 µm/h, the coatings being interruptedly bombarded by molecules with energy rеgulated from 10 to 300 eV.
Keywords
References
- 1. Метель А.С. Тлеющий разряд с электростатическим удержанием электронов в камере, облучаемой быстрыми электронами / А.С. Метель, С.Н. Григорьев, Ю.А. Мельник [и др.] // Физика плазмы. – 2011. – Т. 37. №7. – С. 674. – EDN NXQNHH
- 2. Metel A. Plasma immersion ion implantation based on glow discharge with electrostatic confinement of electrons // Surf. Coat. Technol. 2002. V. 156. No 1/3. P. 38; 96. No 1. P. 81.
- 3. Метель А.С. Пучки быстрых нейтральных атомов и молекул в плазме газового разряда низкого давления / А.С. Метель // Физика плазмы. – 2012. – Т. 38. №3. – С. 281. – EDN OWEXND
- 4. Grigoriev S., Melnik Yu., Metel A. Broad fast neutral molecule beam sources for industrial-scale beam-assisted deposition // Surf. Coat. Technol. 2002. V. 156. No 1/3. P. 44.
- 5. Григорьев С.Н. Источник широкого пучка быстрых атомов, получаемых при перезарядке ионов, ускоряемых между двумя областями, заполненными плазмой / С.Н. Григорьев, Ю.А. Мельник, А.С. Метель [и др.] // Приборы и техника эксперимента. – 2009. – №4. – С. 166. EDN KPTMZD
- 6. Григорьев С.Н. Компактный источник пара материала проводящей мишени, распыляемой ионами с энергией 3 кэВ при давлении 0,05 Па / С.Н. Григорьев, Ю.А. Мельник, А.С. Метель [и др.] // Приборы и техника эксперимента. – 2009. – №5. – С. 127. EDN KWIGTT
- 7. Метель А.С. Особенности установления квазистационарного состояния сильноточного тлеющего разряда с полым катодом при пониженных давлениях газа / А.С. Метель // Журнал технической физики. – 1986. – Т. 56. №12. – С. 2329. – EDN PXDHXD
- 8. Метель А.С. Влияние ионизации в катодном слое на характеристики тлеющего разряда с осциллирующими электронами. I. Разряд с полым катодом / А.С. Метель // Журнал технической физики. – 1985. – Т. 55. №10. – С. 1928. – EDN PYVVGH
- 9. Метель А.С. Тлеющий разряд с электростатическим удержанием электронов: физика, техника, применения / А.С. Метель, С.Н. Григорьев. – М., 2005. – 296 с. – EDN PKLVYN
- 10. Григорьев С.Н. Разработка технологии нанесения износостойких покрытий на режущий инструмент на основе минералокерамики и кубического нитрида бора / С.Н. Григорьев, В.Г. Боровский // Обработка металлов: технология, оборудование, инструменты. – 2003. – №3. – С. 5–6. – EDN ORIYEH
- 11. Григорьев С.Н. Современное вакуумно-плазменное оборудование и технологии комбинированного упрочнения инструмента и деталей машин / С.Н. Григорьев // Технология машиностроения. – 2004. – №3. – С. 20–26. – EDN PCZJNZ
- 12. Метель А.С. Несамостоятельный тлеющий разряд с электростатическим удержанием электронов, поддерживаемый пучком быстрых нейтральных молекул / А.С. Метель, Ю.А. Мельник, В.В. Панин // Физика плазмы. – 2011. – Т. 37. №4. – С. 387. – EDN NSYPXL
- 13. Метель А.С. Заполнение рабочей камеры технологической установки однородной плазмой с помощью стационарного тлеющего разряда / А.С. Метель, С.Н. Григорьев, Ю.А. Мельник [и др.] // Физика плазмы. – 2009. – Т. 35. №12. – С. 1140–1149. – EDN KYGJUP
Comments(0)